本實(shí)用新型屬于真空鍍膜機(jī)設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，本實(shí)用新型涉及一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室。
背景技術(shù)：
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材表面進(jìn)行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。
目前真空腔體內(nèi)部靶材濺射是無(wú)法杜絕的現(xiàn)象，對(duì)靶材濺射出的靶材材料的有效吸附的最大面積為真空腔體內(nèi)部表面和遮擋板，由于長(zhǎng)時(shí)間靶材濺射必然會(huì)產(chǎn)生遮擋板表面靶材材料堆積，當(dāng)遮擋板上堆積的靶材材料達(dá)到一定厚度時(shí)，需對(duì)遮擋板進(jìn)行清理；現(xiàn)有技術(shù)中真空腔體內(nèi)部的遮擋板結(jié)構(gòu)為平面形狀，采用平面結(jié)構(gòu)的遮擋板，則平面結(jié)構(gòu)堆積的靶材材料較少，需要頻繁進(jìn)行維護(hù)清理，降低了真空鍍膜機(jī)的利用效率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型的一個(gè)目的是解決至少上述問(wèn)題和/或缺陷，并提供至少后面將說(shuō)明的優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本實(shí)用新型的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn)，提供了一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，包括：
真空腔體；
波浪形遮擋板，其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上；
主傳動(dòng)輥，其設(shè)置在真空腔體的下部居中的位置；所述真空腔體的上部左右對(duì)稱(chēng)設(shè)置放卷輥和收卷輥；
三個(gè)鍍膜靶材，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥的外圓周?chē)椅挥谥鱾鲃?dòng)輥的下方。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板的在真空腔體的內(nèi)壁的鋪設(shè)面與真空腔體的內(nèi)壁相匹配。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為采用螺栓連接。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為：在所述波浪形遮擋板的端部設(shè)置有彎折部，所述真空腔體的內(nèi)壁上設(shè)置有與彎折部相匹配的卡槽，所述卡槽和彎折部相匹配連接以實(shí)現(xiàn)波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接。
優(yōu)選的是，所述真空腔體上設(shè)置有用于連接真空抽氣機(jī)組的抽氣孔和用于連接充氣系統(tǒng)的充氣孔。
優(yōu)選的是，還包括導(dǎo)向輥，其設(shè)置在真空腔體內(nèi)，且導(dǎo)向輥分別位于主傳動(dòng)輥與放卷輥之間、主傳動(dòng)輥與收卷輥之間。
本實(shí)用新型至少包括以下有益效果：本實(shí)用新型將真空腔體內(nèi)部的遮擋板設(shè)置為波浪形遮擋板，其有效增加了擋板的整體面積，讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料，減少保養(yǎng)次數(shù)，從而增加設(shè)備有效生產(chǎn)時(shí)間。
本實(shí)用新型的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過(guò)下面的說(shuō)明體現(xiàn)，部分還將通過(guò)對(duì)本實(shí)用新型的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，包括：真空腔體；波浪形遮擋板，其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上；主傳動(dòng)輥，其設(shè)置在真空腔體的下部居中的位置；所述真空腔體的上部左右對(duì)稱(chēng)設(shè)置放卷輥和收卷輥；三個(gè)鍍膜靶材，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥的外圓周?chē)?，且位于主傳?dòng)輥的下方；本實(shí)用新型將真空腔體內(nèi)部的遮擋板設(shè)置為波浪形遮擋板，其有效增加了擋板的整體面積，讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料，減少保養(yǎng)次數(shù)，從而增加設(shè)備有效生產(chǎn)時(shí)間。
